●「流出する特許出願情報」の記事について

　今朝（７／１）の読売新聞の一面に、「流出する特許出願情報」という記事が掲載されていました。以前、どこかで荒井元特許庁長官も同様の特許出願情報の流出への危惧について指摘していました。
　今朝の読売新聞の記事では、具体的に「ＪＥＴＲＯ北京センターの後谷陽一・知的財産権室長は、昨年夏、中国最大の家電メーカー　ハイアールグループの本社を視察して衝撃を受けた。同社の知的財産担当者が胸を張って、こう語ったからである。「数十台のパソコンで日米欧の特許庁に寄せられた特許出願情報を検索し、製品化に役立つ研究開発情報を利用させてもらっている。だから当社は研究費が非常に少ない。」・・・一日あたりの（特許庁への）アクセス数は、中国から１万７０００、韓国から５万５０００件にのぼっていた。」と掲載されていました。
　どの程度、中国や韓国の企業がＩＰＤＬの情報を参考にしているかは不明ですが、最近の韓国や中国メーカの半導体や液晶の技術の進歩を見ると、特許出願情報の流出は無視できないものと思いました。
　勿論、国内産業のいたずらな保護主義になるのは問題ですが、個人的には、特許法が我が国の産業の発展を目的とする以上、我が国の特許情報もその目的を達成するよう、ある程度、海外からのアクセスを制限することも必要であると考えます。
　ＰＳ；最近、特許庁の電子図書館（ＩＰＤＬ）がビジーなときが多いのは、海外からのアクセス数の増大のせいだったのでしょうか？