●平成17(行ケ)10717　審決取消請求事件「有機発光素子用のカプセル

　　今日は、特許庁の出した進歩性なしの拒絶審決が取り消された知財の判決である『平成17(行ケ)10717　審決取消請求事件　特許権　行政訴訟「有機発光素子用のカプセル封入材としてのシロキサンおよびシロキサン誘導体」平成18年10月11日　知的財産高等裁判所』（http://www.courts.go.jp/hanrei/pdf/20061012142539.pdf）について取り上げます。

　本件では、同一技術分野に属する引用発明であっても、引用発明同士が発明の目的が異なり、さらには発明の目的の点等から引用発明同士の組み合わせを阻却するような証拠もあっため、組み合わせるための論理付けがないと判断され、進歩性ありと判断された事案です。

　つまり、知財高裁は、

『(１) 被告は，発光部分（引用発明１ｂの有機ＥＬ素子，引用発明３の積層構造体）と被覆層（引用発明１ｂのオーバーコート層，引用発明３のシロキサン）との関係を見ると，引用発明１ｂも引用発明３も発光部分が被覆層に覆われているものであり，また，引用発明１ｂと引用発明３とは，有機発光素子という同一技術分野に属しているので，引用発明１ｂのオーバーコート層を引用発明３のシロキサンに置き換えて相違点に係る構成とすることに格別の困難性はないと主張する。

　そして引用発明１ｂの発光部分が被覆層に覆われているといえることは，上記１の(１)のとおりであり，刊行物１，３の各記載によれば，引用発明３においても発光部分が被覆層に覆われているといえること，引用発明１ｂ及び引用発明３が有機発光素子という同一技術分野に属していることも，被告主張のとおりである。

　しかしながら，刊行物１の・・・との記載によれば，引用発明１ａのオーバーコート層は，光散乱部の凹凸面上に直接有機発光素子を形成した場合における，光散乱部の凹凸の影響による発光面の多数のダークスポットの発生やショートパスによる断線などを避けるため，光散乱部の凹凸面を実質的に平坦化する目的で形成するものであることが認められる。

　他方，刊行物３の・・・との各記載によれば，引用発明３のシロキサンは，有機発光素子の外表面にシールド層を形成する際の影響から有機発光素子を保護すること等を目的とする保護膜として設けられるものであり、保護層形成過程での発光層や対向電極の特性劣化をできるだけ抑止するためにＣＶＤ法により真空環境下で形成されることが特に好ましいことが認められる。

　また，特開平１−３０７２４７号公報（乙第１号証）には，一般にＣＶＤ法（プラズマＣＶＤ法）によって成膜された酸化膜は極めて薄く，平坦化目的には適さないことが記載されている（１頁右欄６〜１５行）。

　そして，刊行物１の上記記載によれば，引用発明１ｂのオーバーコート層は，光散乱部の凹凸面を実質的に平坦化し得るものでなければならないが，引用発明３のシロキサンが，その形成方法や膜厚を含めて平坦化に適した特質を有することを認めるに足りる証拠はなく，却って，上記刊行物３の記載や特開平１−３０７２４７号公報の記載に照らすと，平坦化には適さないことが窺われる。

　そうすると，たとえ，引用発明１ｂも引用発明３も発光部分（引用発明１ｂの有機ＥＬ素子，引用発明３の積層構造体）が被覆層（引用発明１ｂのオーバーコート層，引用発明３のシロキサン）に覆われているものであり，また，引用発明１ｂと引用発明３とは，有機発光素子という同一技術分野に属しているとしても，それだけでは，引用発明１ｂのオーバーコート層に換えて引用発明３のシロキサンを用いることが，当業者にとって容易になし得たと論理付けることはできない。

　被告は，特開平１−３０７２４７号公報（乙第１号証）や特開平２−１２３７５４号公報（乙第２号証）に見られるように，平坦化膜としてシロキサンを用いることは従来周知の技術事項であると主張するが，特開平１−３０７２４７号公報は，上記のとおり，ＣＶＤ法（プラズマＣＶＤ法）によって成膜された酸化膜が極めて薄いため，平坦化目的には適さないとするものであって，そのシロキサンによる平坦化層の形成方法（３頁左上欄３行〜右上欄６行）は，ＣＶＤ法によりなされるものではない。このことは，特開平２−１２３７５４号公報記載のシロキサンによる層形成（３頁右上欄末行〜左下欄１４行）においても同様である。

　しかも，これらの刊行物に記載される平坦化膜は，引用発明１ｂや引用発明３のような有機発光素子装置ではなく，半導体装置に形成されるものであるところ，保護層形成過程において受けるダメージに関して，有機発光素子を，半導体素子と同様に扱ってよいことが知られていると認めるに足りる証拠もない。そうすると，上記各刊行物に，半導体装置において，ＣＶＤ法以外の方法により，シロキサンを用いた平坦化膜の形成が記載されているからといって，これに従って，上記のとおり「ＣＶＤ法［プラズマ重合法（プラズマＣＶＤ）］により成膜可能な電気絶縁性高分子化合物・・・ポリシロキサン等「長寿命の有機ＥＬ素子を得る。」うえからは，保護層の形成過程での発光層や対向電極の特性劣化をできるだけ抑止することが望ましく，そのためにはＰＶＤ法やＣＶＤ法により真空環境下で保護層を設けることが特に好ましい」との記載のある刊行物３に開示されたシロキサンの保護膜を，真空環境下におけるＣＶＤ法以外の方法により形成して，引用発明１ｂのオーバーコート層に代わる平坦化膜に使用することが，当業者に容易になし得るものとは認めることができない。

　なお，被告は，引用発明１ｂのオーバーコート層を引用発明３のシロキサンに置き換えて用いることは，より良い材料を試みようとする当業者にとって当然のことであるとも主張するが，上記のとおり，引用発明３のシロキサンが，平坦化に適した特質を有するものとは認められないのであるから，これを引用発明１ｂのオーバーコート層に代わる「より良い材料」ということはできないのであって，被告の上記主張を採用することもできない。』

と判断しました。